薄膜超導元件的研制與特性探討---子計畫五：雷 射鍍膜法中臨場監控超導薄膜生長之研究

標題:	薄膜超導元件的研制與特性探討---子計畫五：雷射鍍膜法中臨場監控超導薄膜生長之研究 In-Situ Monitoring of Superconducting Film Growth in Pulsed Laser Deposition
作者:	吳光雄 WU KAUNG-HSIUNG 國立交通大學電子物理學系
關鍵字:	臨場監控超導薄膜成長;機制;反射式高能電子繞射儀;脈衝雷射蒸鍍;汞系薄膜;In-situ monitoring of superconducting thin film growth;Mechanism;Reflectivehigh energy electron diffraction;Pulsed laser deposition;Hg-series thinfilm;RHEED;PLD
公開日期:	1996
官方說明文件#:	NSC85-2112-M009-039-PH
URI:	http://hdl.handle.net/11536/95634 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=236140&docId=43499
顯示於類別：	研究計畫