| 標題: | 薄膜超導元件的研製與特性探討---(A)雷射鍍膜法中臨場監控單層成長超導薄膜製程之研究(B)晶界-薄膜超導元件的研製與特性探討(II) Fabrication and Characterization of Superconducting Thin Film Devices (II) |
| 作者: | 郭義雄 國立交通大學電子物理學系 |
| 公開日期: | 1995 |
| 官方說明文件#: | NSC84-2112-M009-027-PH |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/96781 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=160898&docId=26758 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
