標題: 鋁膜中摻雜 Si 及Cu對其陽極氧化薄膜生成之影響及其在IC上之應用
Effect of Si and Cu Doping on the Anodic Oxide Formation of Al Thin Films and Their IC Applications
作者: 張秉衡
國立交通大學材料科學工程研究所
公開日期: 1994
官方說明文件#: NSC83-0404-E009-098
URI: http://hdl.handle.net/11536/97457
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=110644&docId=17682
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