金屬線及空氣低介電常數介電質前瞻性積體技術開發(II)

標題:	金屬線及空氣低介電常數介電質前瞻性積體技術開發(II) Advanced Integration Techonology of Intermetal and Air Gap Low k Dielectrics for ULSI Application (II)
作者:	張國明 CHANG KOW-MING 國立交通大學電子工程學系
關鍵字:	金屬線;低介電常數;極大型積體電路;氣隙;Metal wire;Low dielectric constant;ULSI;Air gap
公開日期:	2001
官方說明文件#:	NSC90-2215-E009-046
URI:	http://hdl.handle.net/11536/97684 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=665627&docId=126354
顯示於類別：	研究計畫

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