真空尖端之模擬---求出最佳之理論尖端

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	鄭晃忠	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:40:59Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:40:59Z	-
dc.date.issued	1993	en_US
dc.identifier.govdoc	E82004	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/98053	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=56813&docId=8339	en_US
dc.description.abstract	由於場發射電子元件具有在高速操作模式下對溫度的不敏感性,抗輻射性,高頻操作性,可在高或低電壓操作......等優點,所以在未來電子工業上, 相信會有很多的應用領域被開發出來,其中以真空微電子元件與顯示器上之用途,更具有發展潛能.	zh_TW
dc.description.sponsorship	經濟部	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	場發射	zh_TW
dc.subject	真空微電子	zh_TW
dc.subject	真空尖端	zh_TW
dc.subject	Field emission	en_US
dc.subject	Vacuum microelectronics	en_US
dc.subject	Vacuum tip	en_US
dc.title	真空尖端之模擬---求出最佳之理論尖端	zh_TW
dc.title	Vacuum Microtip Simulation-Find the Best Theoretical Tip	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學電子工程系(NCTEELN)	zh_TW
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