學研合作計畫－次22奈米金屬閘極/高介電質場效電晶體及記憶體技術平台( II )

標題:	學研合作計畫－次22奈米金屬閘極/高介電質場效電晶體及記憶體技術平台( II ) Sub-22nm Metal-Gate/High-Κ Cmos and Embedded Memory Platform
作者:	荊鳳德 CHIN ALBERT 國立交通大學電子工程學系及電子研究所
公開日期:	2012
官方說明文件#:	NSC101-2120-M009-004
URI:	http://hdl.handle.net/11536/98682 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=2630653&docId=394984
顯示於類別：	研究計畫