矽晶圓高效減廢超洗淨技術研究

Date

Authors

Keywords

矽晶圓 , 超洗淨 , 表面分析 , 金氧半導體 , 金屬汙染物 , 氮化氧化層 , Silicon wafer , Ultra-cleaning , Surface analysis , MOS , Metal contaminant , Nitrided oxide

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418270&docId=74205
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94279

Collections

研究計畫;;Research Plans