嵌附式減光型相移圖罩之模擬與製備

Date

Authors

Keywords

相移光罩 , 活性離子蝕刻 , 電子束 , 微影術 , 步進機 , Phase shift mask (PSM) , Reactive ion etching (RIE) , E-beam , Lithography , Stepper

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418240&docId=74198
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94241

Collections

研究計畫;;Research Plans