單晶CVD薄膜和熔化成長法製成中之不穩定熱流與使其穩定之研究---子計畫二：薄膜單晶成長之垂直式CVD反應器內流動與熱傳之數值研究 (I)

Date

Authors

Keywords

化學蒸汽堆積法 , 薄膜單晶成長 , 數值模擬 , Chemical vapor deposition , Thin film single crystal growth , Numericalsimulation

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=230694&docId=41961
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95782

Collections

研究計畫;;Research Plans