快速熱程序設備動態模式建立參數判別及溫度控制(III)

Files

882218E009005.pdf (309.33 KB)

Date

Authors

Keywords

快速熱處理 , 溫度控制 , 參數識別 , 晶圓表面 , 線性矩陣不等式 , 熱源 , Rapid thermal processing (RTP) , Temperature control , Parameter identification , Wafer surface , Linear matrix inequality , Heat source

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=430078&docId=77027
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94475

Collections

研究計畫;;Research Plans