瀏覽 的方式： 關鍵字 Extreme UV lithography (EUVL)
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 2011 | 學研合作計畫-極紫外光微影技術II (EUVL II)-從光源、檢測分析技術到奈米元件可靠度研究( I ) | 黃遠東; HUANG YANG-TUNG; 國立交通大學電子工程學系及電子研究所 |
| 2010 | 極紫外光(EUV)微影技術從光源建造、光罩、材料、製程到奈米元件可靠度研究(III) | 黃遠東; HUANG YANG-TUNG; 國立交通大學電子工程學系及電子研究所 |