瀏覽 的方式： 作者 邱于建
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 2013 | 使用二氧化矽/氧化鋁介電層運用在氮化鎵鋁/氮化鎵 金屬-絕緣層-半導體電晶體的研究 | 邱于建; Chiu, Yu-Chien; 荊鳳德; Albert Chin; 光電系統研究所 |
| 2017 | 應變閘極堆疊負電容鐵電介電層應用於低功耗記憶體與次10奈米電晶體之研究 | 邱于建; 張俊彥; 鄭淳護; Chiu, Yu-Chien; Chang, Chun-Yen; Cheng, Chun-Hu; 電子研究所 |
| 16-十月-2016 | 記憶體結構 | 張俊彥; 鄭淳護; 邱于建 |