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1990CCl F 及CHF 氣體在活性離子蝕刻系統中對Si及SiO 表面之蝕刻及成膜行為陳俊麟; CHEN,JUN-LIN; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990Poly(tutene-1 sulfone)作為深紫外光正型阻劑及其氮電漿表面改質之研究張憲武; ZHANG,XIAN-WU; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990交聯反應對乾式顯影表面選擇性強化之影響朱政宇; ZHU,ZHENG-YU; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990以氧電漿氧化砷化鎵所生成之氧化層做為抗反射層及原位光罩張宏隆; ZHANG,HONG-LONG; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990以氫電漿前處理強化氧電漿對離子植入負型阻劑之清除顏明碩; YAN,MING-SHUO; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990單層阻劑以鉀離子與矽化物進行物進行乾式顯影表面選擇性強化之機理探討王嘉蓮; WANG,JIA-LIAN; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1989微影成像對比加強材料性質之直接模擬潘鴻賜; PAN,HONG-SI; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990氮化鈦薄膜做為次微米微影成像抗反射層之性質與影響邱國鼎; QIU,GUO-DING; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1990酸性硬金的槽液組成及光澤劑之研究林淙敏; LIN,CHONG-MIN; 龍文安; 林均輝; LONG,WEN-AN; LIN,JUN-HUI; 科技法律研究所
1989銦砷化鎵光導開關式光偵測器之研製林智勇; LIN,ZHI-YONG; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
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