12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫I：12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(I)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	林清發	en_US
dc.contributor.author	LIN TSING-FA	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:49:29Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:49:29Z	-
dc.date.issued	2000	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC89-2212-E009-038	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/101659	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=501193&docId=90357	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	CVD反應爐	zh_TW
dc.subject	加熱設計	zh_TW
dc.subject	流力設計	zh_TW
dc.subject	CVD reactor	en_US
dc.subject	Heating design	en_US
dc.subject	Flow design	en_US
dc.title	12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫I：12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(I)	zh_TW
dc.title	Design of Heating Assembly and Gas Feeding Unit for BST Thin Film Growth and Integration of CVD Reactor System for a 12-Inch Single Silicon Wafer (I)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學機械工程系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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