標題: | 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫一:12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(II) Design of Heating Assembly and Gas Feeding Unit for BST Thin Film Growth and Integration of CVD Reactor System for a 12-inch Single Silicon Wafer (II) |
作者: | 林清發 LIN TSING-FA 國立交通大學機械工程研究所 |
公開日期: | 2000 |
官方說明文件#: | NSC89-2212-E009-079 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/102880 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=549681&docId=101493 |
顯示於類別: | 研究計畫 |