標題: 製造奈米結構材料的方法
作者: 陳智
楊慶榮
王舜民
謝嘉民
公開日期: 11-四月-2014
摘要: 一種製造奈米結構材料的方法,應用於形成一維奈米材料。上述方法包括下列步驟:形成一金屬層於一基底及一接著層上並對金屬層進行陽極化處理步驟以形成一具有複數個奈米孔洞的金屬化物模板,之後再沉積一源材料於奈米孔洞中及金屬化物模板上。最後依序移除金屬化物模板上之源材料及金屬化物模板以形成一維奈米材料。上述步驟中利用了陽極氧化鋁作為模板與原子層化學氣相沉積法沉積源材料,可縮短製造時間並控制材料的品質。
官方說明文件#: B82B003/00
C23C016/00
URI: http://hdl.handle.net/11536/103842
專利國: TWN
專利號碼: I433810
顯示於類別:專利資料


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