完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 陳仕鴻 | en_US |
| dc.contributor.author | 郭建億 | en_US |
| dc.contributor.author | 張翼 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:13:23Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-16T06:13:23Z | - |
| dc.date.issued | 2007-04-01 | en_US |
| dc.identifier.govdoc | H01L021/28 | zh_TW |
| dc.identifier.govdoc | H01L021/027 | zh_TW |
| dc.identifier.govdoc | G03F007/20 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/104102 | - |
| dc.description.abstract | 一種形成電子裝置閘極圖案之方法,包括以下步驟:提供一基板,其上形成一第一光阻層;進行一第一道微影製程,以形成一具有一第一寬度之一第一圖案於該基板上;形成一第二光阻層,其覆蓋該基板上之該第一圖案以及該第一光阻層;以及進行一第二道微影製程,其與該第一道微影製程之間具有一位移,以形成一具有一第二寬度之一第二圖案於該基板上;其中,該第二寬度係小於該第一寬度。 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.title | 形成電子裝置閘極圖案之方法 | zh_TW |
| dc.type | Patents | en_US |
| dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
| dc.citation.patentnumber | 200713435 | zh_TW |
| 顯示於類別： | 專利資料 | |
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