標題: 形成電子裝置閘極圖案之方法
作者: 陳仕鴻
郭建億
張翼
公開日期: 1-十一月-2006
摘要: 一種形成電子裝置閘極圖案之方法,包括以下步驟: 提供一基板,其上形成一第一光阻層;進行一第一道微影 製程,以形成一具有一第一寬度之一第一圖案於該基板 上;形成一第二光阻層,其覆蓋該基板上之該第一圖案以 及該第一光阻層;以及進行一第二道微影製程,其與該第 一道微影製程之間具有一位移,以形成一具有一第二寬度 之一第二圖案於該基板上;其中,該第二寬度係小於該第 一寬度。
官方說明文件#: H01L021/28
H01L021/027
G03F007/20
URI: http://hdl.handle.net/11536/106300
專利國: TWN
專利號碼: I265564
顯示於類別:專利資料


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