標題: | 形成電子裝置閘極圖案之方法 |
作者: | 陳仕鴻 郭建億 張翼 |
公開日期: | 1-十一月-2006 |
摘要: | 一種形成電子裝置閘極圖案之方法,包括以下步驟: 提供一基板,其上形成一第一光阻層;進行一第一道微影 製程,以形成一具有一第一寬度之一第一圖案於該基板 上;形成一第二光阻層,其覆蓋該基板上之該第一圖案以 及該第一光阻層;以及進行一第二道微影製程,其與該第 一道微影製程之間具有一位移,以形成一具有一第二寬度 之一第二圖案於該基板上;其中,該第二寬度係小於該第 一寬度。 |
官方說明文件#: | H01L021/28 H01L021/027 G03F007/20 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/106300 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | I265564 |
顯示於類別: | 專利資料 |