多孔奈米結構之製作方法

Abstract

一種多孔奈米結構之製作方法，係藉由在一半導體基材上進行一濺鍍製程，以形成一金屬奈米網格陣列。之後，再對上述之半導體基材與金屬奈米網格陣列進行一乾蝕刻製程，以在半導體基材上形成一多孔奈米結構。利用此種製作方法，僅需兩道製程步驟，即可完成高性能之抗反射多孔矽奈米仿生結構的製作，相較於習知，可有效兼具減少繁瑣製程步驟以及具備高抗反射性之優點。