標題: 具高能隙偏移層結構之薄膜場效電晶體元件
作者: 張俊彥
公開日期: 23-Jun-2001
摘要: 一種具高能隙偏移層結構之薄膜場效電晶體元件,係在基底上的源極/汲極和閘極底下閘極絕緣層之間,垂直疊放複數個不同能隙之半導體層,該複數個半導體層包含高-低-高-低能隙,低-高-低能隙,高-低-高能隙或低-高能隙結構的半導體層,其中低能隙半導體層鄰接閘極絕緣層,作為載子的通道層,在元件導通時能傳導載子,而鄰接通道層的高能隙偏移層,能在該元件關閉狀態下,阻擋傳導載子發生能帶到能帶的穿透傳輸,降低閘極感應之汲極漏電流,另外,鄰接高能隙偏移層的低能隙半導體層,形成半導體與金屬層之間的歐姆接觸區,當做源極/汲極的接觸層,而鄰接閘極的高能隙介面層,則是用來捕捉可能存在於通道層與閘極絕緣層之間的介面缺陷,使元件特性便不會受閘極絕緣層20的介面特性直接影響,並讓該元件在導通狀態下能維持相當大的導通電流,同時在關閉狀態下,能大幅降低元件之關閉電流,提高其開/關電流比,適合應用到液晶顯示器上,可以大幅提升其畫面品質。
官方說明文件#: H01L029/78
H01L029/78
URI: http://hdl.handle.net/11536/106472
專利國: TWN
專利號碼: 00442977
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