大面積光刻製程用之全反射軟性光罩設計

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	洪紹剛	zh_TW
dc.date.accessioned	2016-12-20T03:56:45Z	-
dc.date.available	2016-12-20T03:56:45Z	-
dc.date.issued	2016	en_US
dc.identifier.govdoc	MOST105-2221-E009-060	zh_TW
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11881354&docId=485938	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/131814	-
dc.description.abstract		zh_TW
dc.description.abstract		en_US
dc.description.sponsorship	科技部	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject		zh_TW
dc.subject		en_US
dc.title	大面積光刻製程用之全反射軟性光罩設計	zh_TW
dc.title	Design of the Total-Internal-Reflection-Based Soft Photomask for Large-Area Photolithography	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學機械工程學系（所）	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫