標題: 高速電晶體
作者: 李?宇
鄒安傑
郭浩中
張俊彥
公開日期: 1-八月-2016
摘要: 本發明係提供一種高速電晶體,包括基板、形成於該基板上方的超晶格結構以及形成於該超晶格結構上的磊晶層。該高速電晶體使用具有碳摻雜的氮化鋁/氮化鎵的超晶格結構作為磊晶層與基板之間的結構,而能有效減少垂直漏電流,進而能夠提昇磊晶品質及高速電晶體之崩潰電壓。
官方說明文件#: H01L029/778
H01L021/22
URI: http://hdl.handle.net/11536/132299
專利國: TWN
專利號碼: 201628191
顯示於類別:專利資料


文件中的檔案:

  1. 201628191.pdf

若為 zip 檔案,請下載檔案解壓縮後,用瀏覽器開啟資料夾中的 index.html 瀏覽全文。