研究電子顯微鏡技術應用在接觸窗缺陷分析

標題:	研究電子顯微鏡技術應用在接觸窗缺陷分析 Application of Electron Microscope on Defect Analysis for Via
作者:	洪致先柯富祥 Hung, Chih-Hsien Ko, Fu-Hsiang 工學院半導體材料與製程設備學程
關鍵字:	電子束檢測;缺陷;接觸窗;電子顯微鏡;Ebeam;defect;Via;Dark field;bright field;voltage contrast
公開日期:	2016
URI:	http://etd.lib.nctu.edu.tw/cdrfb3/record/nctu/#GT070061328 http://hdl.handle.net/11536/143186
顯示於類別：	畢業論文