標題: A MODEL FOR THE DEPOSITION OF PHOSPHORUS IN SILICON
作者: GUO, SF
電控工程研究所
Institute of Electrical and Control Engineering
公開日期: 1982
URI: http://hdl.handle.net/11536/4985
ISSN: 0013-4651
期刊: JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
Volume: 129
Issue: 3
起始頁: C101
結束頁: C101
顯示於類別:期刊論文