標題: 鈦與氧化鋯混體在燒結過程中的介面反應
Interfacial Phenomenon during sintering in Titanium and Zirconia Systems
作者: 李明昌
Ming-Chung Li
林健正
Chein-Cheng Lin
材料科學與工程學系
關鍵字: 鈦金屬;部分安定氧化鋯;燒結;介面;穿透式電子顯微鏡;微觀組織;Titanium;Partially Stabilized Zirconia;Sintering;Interface;Transmission Electron Microscopy;Microstructure
公開日期: 2003
摘要: 本實驗利用TEM/EDS、EPMA及XRD鑑定Ti與ZrO2混體在以氬氣為保護氣氛下,經過1300℃、1400℃及1500℃六小時燒結過程中的介面反應,試片條件以AT-X表示,其中A為Ti在試片中之原子百分比;X為熱處理溫度。在5T-1500的實驗當中,除了monoclinic及tetragonal結構之ZrO2之外亦發現有cubic結構之ZrO2。5T-1400中,ZrO2還原成monoclinic及tetragonal結構之ZrO2-x而Ti氧化成NaCl結構之TiO,而在50T-1400中亦有相同的實驗結果。50T-1500的實驗中,因介面應力(interfacial stress)影響下有大量monoclinic結構之ZrO2生成。在50T-1300,ZrO2還原成tetragonal結構之ZrO2-x而Ti氧化成NaCl結構之TiO,且有玻璃相的生成。在90T-1500的實驗中發現晶體結構為pyrochlore之Y2Ti2O7。在90T-1400,Ti金屬在高溫冷卻時,由β-Ti(Zr,O)轉變為 β´-Ti,而在 -Ti(Zr,O)中當Zr及O固溶達到飽和時,即以Ti2ZrO析出,其方位關係為[0001]α-Ti//[001]Ti2ZrO。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009118544
http://hdl.handle.net/11536/51146
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