蒸鍍在焦電材料PZT 基座上Te 薄膜特性之研究

Title:	蒸鍍在焦電材料PZT 基座上Te 薄膜特性之研究
Authors:	楊立昌 Yang, Li-Chang 謝正雄 Xie, Zheng-Xiong 光電工程學系
Keywords:	蒸鍍;焦電材料;基座上;薄膜特性;焦電效應;光電學;光學;雷射學;光電工程;PET;TE;ELECTRO-OPTICS-ENGINEERING;OPTICS;LASER;OPTI-ELECTRONIC-ENGINEERING
Issue Date:	1980
Abstract:	本文研究蒸鍍在PZT 與玻璃基座上Te薄膜的特性。測量Te薄膜的導電性與霍爾效應我們觀察Te薄膜電的特性, 并利用10.6μm 的CO 雷射觀察PZT 的焦電效應, 我們提出一簡單模型解釋該現象。
URI:	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT694123007 http://hdl.handle.net/11536/51308
Appears in Collections:	Thesis

APA	楊., Yang, L., 謝., & Xie, Z. (1980). 蒸鍍在焦電材料PZT 基座上Te 薄膜特性之研究. http://hdl.handle.net/11536/51308.
Bibtex	@article{楊立昌 and Yang1980蒸鍍在焦電材料PZT, title={蒸鍍在焦電材料PZT 基座上Te 薄膜特性之研究}, author={楊立昌 and Yang, Li-Chang and 謝正雄 and Xie, Zheng-Xiong}, journal={http://hdl.handle.net/11536/51308}, year={1980}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/51308}, }