光化學氣相沈積系統與其生長之二氧化矽膜特性

Abstract

在本文中，將介紹國內新引進之光化學氣目沈積系統。這是一種利用紫外光進行光化 學反應，在低溫、低壓下運作的薄膜沈積系統。以此系統在不同沈積條件下成長的二 氧化矽膜試品，分別利用了Auger 能譜儀、電子顯微鏡、橢圓儀及紅外線光譜儀等， 做頻譜及光學性質的測試，分析薄膜的化學組成，以尋求長出理想薄膜的反應條件與 製程。並以銻化銦為基底，製成ＭＩＳ結構。對其電性質做了Ｉ－Ｖ、Ｃ－Ｖ、Ｃ－ ｔ等測量。最後並將薄膜沈積速率實驗的數據，用異相表面反應理論進行描述，推論 其化學反應的動力與機構。