利用液態磊晶二相溶液技術研製半導體雷射

Abstract

半導體雷射在光電領域上的潛力相當大，非但是光纖通訊及很多光電系統 的重要光 源之一，其製作程序更是發展積體光學的基礎。 此研究乃秉承本實驗室既有的ＡｌxＧａ1-xＡs 多層薄膜磊晶技術，探討半導體雷射 的製造程序，先後分別製作雙異質結構寬面雷射和氧化層限流條狀雙異結構雷射。 製成功的條狀結構雷射，其在脈衝方式操作下的起始電流是1.18安培，相當起始電流 密度為2.36×１０4 安培╱平方公分，發光功率為0.15厘瓦。