標題: 雜質及缺陷之交互擴散: 一種磷及硼擴散的新模式
作者: 高耀堂
GAO, YAO-TANG
郭雙發
GOU, SHUANG-FA
電子研究所
關鍵字: 雜質;缺陷;擴散;交互擴散;磷;硼
公開日期: 1985
摘要: 本文發展了一套雜質及缺陷交互擴散的數值分析程式,此套程式以解雜質及缺陷的傳 輸及連續方程式所組成,並且以雜質及缺陷的濃度為主要變數。吾人假設雜質的擴散 係數為缺陷濃度的函數,而缺陷的分佈係受雜質裡子所產生的電場所影響。這個模式 成功地解釋了磷及硼等不規則的沈積曲線。缺陷的擴散係數及雜質擴散係數模式中的 比例常數,均可以表示成Arrhenius 的形式。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742430047
http://hdl.handle.net/11536/52453
顯示於類別:畢業論文