Full metadata record
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dc.contributor.author高耀堂en_US
dc.contributor.authorGAO, YAO-TANGen_US
dc.contributor.author郭雙發en_US
dc.contributor.authorGOU, SHUANG-FAen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:03:46Z-
dc.date.available2014-12-12T02:03:46Z-
dc.date.issued1985en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742430047en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/52453-
dc.description.abstract本文發展了一套雜質及缺陷交互擴散的數值分析程式,此套程式以解雜質及缺陷的傳 輸及連續方程式所組成,並且以雜質及缺陷的濃度為主要變數。吾人假設雜質的擴散 係數為缺陷濃度的函數,而缺陷的分佈係受雜質裡子所產生的電場所影響。這個模式 成功地解釋了磷及硼等不規則的沈積曲線。缺陷的擴散係數及雜質擴散係數模式中的 比例常數,均可以表示成Arrhenius 的形式。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject雜質zh_TW
dc.subject缺陷zh_TW
dc.subject擴散zh_TW
dc.subject交互擴散zh_TW
dc.subjectzh_TW
dc.subjectzh_TW
dc.title雜質及缺陷之交互擴散: 一種磷及硼擴散的新模式zh_TW
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department電子研究所zh_TW
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