以Zeeman雷射為光源的主動雷射干涉儀

Abstract

本論文主要是在探討以Zeeman效應穩頻的氦氖電射作為光源的一種主動干涉儀，研究 其應用於精密光學測量的可行性。它的主要原理是利用調整氦氖電射的頻率來補償干 涉儀光程差的改良，使干涉條紋保持不變，並經由測量雷射頻率的變化來計算光程差 的變化。因為此種方法以測量電射頻率的變化來取代傳統干涉儀計算干涉條紋數目的 測量方法，故具有具高的精密度。加上縱向磁場的單模振盪電射會分裂成兩個左右圓 偏極化光，兩左右旋圓偏極化光的頻率差稱為Zeeman拍頻，由於Zeeman拍頻會隨著雷 射頻率的改變而變化，因此可以將Zeeman拍頻和雷射頻率變化之間的關係測出，如此 只要測量Zeeman拍頻的變化，即可知道雷射頻率的變化。利用此種特性，可以簡化量 測的過程和裝質的複雜性。