以菲佐干涉儀測量半導體晶片平整度

Abstract

本文旨在建立菲佐（Fizeau）干涉儀系統用來直接量取半導體晶片之平整度。該系統 主要包括光學部份（菲佐干涉儀）與電子部份（影像處理）。光學部份係由本實驗室 自我組合，光學元件大半係自製。而在電子部份，影像處理係採用微電腦與自行設計 的軟體（包括光學信號之雜訊與背景去除，二值化、細化和平整度之計算）。吾人所 設計之軟體係針對最經濟化與最快速化在現在儀器配合下所完成。其測量的精確度可 達１／１０波長，而測量截面的直徑可寬至７•６２公分。