標題: | 以菲佐干涉儀測量半導體晶片平整度 |
作者: | 高泰啟 GAO, TAI-GI 郭義雄 GUO, YI-XIONG 光電工程學系 |
關鍵字: | 菲佐干涉儀;半導體晶片;平整度;電子;FIZEAU-INTERFEROMETRIC;SEMICONDUCTOR-CRYSTAL;ELECTRIC |
公開日期: | 1986 |
摘要: | 本文旨在建立菲佐(Fizeau)干涉儀系統用來直接量取半導體晶片之平整度。該系統 主要包括光學部份(菲佐干涉儀)與電子部份(影像處理)。光學部份係由本實驗室 自我組合,光學元件大半係自製。而在電子部份,影像處理係採用微電腦與自行設計 的軟體(包括光學信號之雜訊與背景去除,二值化、細化和平整度之計算)。吾人所 設計之軟體係針對最經濟化與最快速化在現在儀器配合下所完成。其測量的精確度可 達1/10波長,而測量截面的直徑可寬至7•62公分。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT752123005 http://hdl.handle.net/11536/52783 |
顯示於類別: | 畢業論文 |