| 標題: | 鋁矽化鉑接觸及鎢薄膜之阻隔效應 |
| 作者: | 駱漢聲 LUO, HAN-SHENG 邱碧秀 GIU, BI-XIU 電子研究所 |
| 關鍵字: | 鋁矽化鉑;鎢薄膜;阻隔效應;接觸反應;鎢礦散屏障層;退火;高蕭特基能障 |
| 公開日期: | 1986 |
| 摘要: | 本文，研究鋁矽接觸反應及鋁／鎢／矽化鉑接觸系統中鎢礦散屏障層的有效性。實驗 結果顯示，鋁／矽化鉑接觸在經過３５０℃，１５分鐘的退火後，接觸反應即會發生 。鎢礦散屏障層能有效地提高接觸穩定度，使得此三層結構鋁／鎢／矽化鉑接觸系統 ，經過５００℃，４小時的退火後，依然保持良好特性。 由本文結果，可得知鋁／鎢／矽化鉑接觸系統，且有高蕭特基能障，低接觸電阻，及 對熱有高穩定度等優點，且其對淺接面無不良影響，能有效解決傳統中，單用鋁做接 觸的缺點。 |
| URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT752430066 http://hdl.handle.net/11536/52970 |
| 顯示於類別： | 畢業論文 |
