標題: | 高速互補式金氧半元件之設計考慮 |
作者: | 趙樹聖 ZHAO, SHU-SHENG 吳重雨 WU, CHONG-YU 電子研究所 |
關鍵字: | 互補式金氧半元件;通道離子;佈值濃度;載子遷移率;等電場;等電壓;準等電壓 |
公開日期: | 1987 |
摘要: | 本文研究通道離子佈植濃度對通道內載子分佈之關係,並將這種關係引進通道內載子 遷移率的理論模式內,可以得到一個較完整和準確的載子遷移率計算模式。同時也研 究離子佈植濃度對載子遷移率的最佳化分佈,藉此而得到較高的載子遷移率。實驗結 果顯示修正後的載子遷率模式,與測量的數值誤差在百分之三以內。 此外,本文也提出一種新的尺度縮小法則,並且利用修正後的載子遷移率模式評估元 件尺度縮小後,傳統的縮小法則-等電場,等電壓及準等電壓三種與新的尺度的縮小 法則載子遷移率與飽合電流的差異。最後並以持續合成與分析(TISA)之電路分析程 式證實新的尺度縮小法則具有較快的速度表現,可以滿足高速互補式金氧半元件的設 計要求。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT762430031 http://hdl.handle.net/11536/53416 |
顯示於類別: | 畢業論文 |