標題: 鏑鋇銅氧化物高溫超導體摻錫之研究
作者: 陳禮廷
CHEN, LI-TING
溫增明
WEN, ZENG-MING
光電工程學系
關鍵字: 氧化物;超導體;交流感磁率;臨界電流密度;梅思堡效應
公開日期: 1988
摘要: 對高溫超導體DyBa□Cu□O□□d 摻錫以後的樣品DyBa□Cu□□□x S n□x O□□d ,x=0,0.025,0.05,0.075,0.1,0.15 ,0.2,0.25,0.3,0.35,0.4。我們分別以X光繞射電阻,交流 感磁率Xac和臨界電流密度Jc 的測量,以及梅思堡效應作了一系列的探討。實驗結 果顯示:只要摻入的錫不是非常多時(x≦0.2),則它對超導性影響性就極為微 小。因此SnO□應可作為Si或SiO□基板與高溫超導薄膜間的緩衝層,藉此提 高超導薄膜的Tc 。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT772123055
http://hdl.handle.net/11536/53710
顯示於類別:畢業論文