標題: | 鏑鋇銅氧化物高溫超導體摻錫之研究 |
作者: | 陳禮廷 CHEN, LI-TING 溫增明 WEN, ZENG-MING 光電工程學系 |
關鍵字: | 氧化物;超導體;交流感磁率;臨界電流密度;梅思堡效應 |
公開日期: | 1988 |
摘要: | 對高溫超導體DyBa□Cu□O□□d 摻錫以後的樣品DyBa□Cu□□□x S n□x O□□d ,x=0,0.025,0.05,0.075,0.1,0.15 ,0.2,0.25,0.3,0.35,0.4。我們分別以X光繞射電阻,交流 感磁率Xac和臨界電流密度Jc 的測量,以及梅思堡效應作了一系列的探討。實驗結 果顯示:只要摻入的錫不是非常多時(x≦0.2),則它對超導性影響性就極為微 小。因此SnO□應可作為Si或SiO□基板與高溫超導薄膜間的緩衝層,藉此提 高超導薄膜的Tc 。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT772123055 http://hdl.handle.net/11536/53710 |
顯示於類別: | 畢業論文 |