脈衝雷射蒸鍍高溫超導薄膜

Abstract

本論文是利用脈衝雷射鍍膜法製備無需後熱處理之Y-Ba-Cu-O 之高溫超導薄膜的研究 報告。我們藉著改變基板溫度，氧氣的氣壓，熱處理條件，雷射光能量，雷射光功率 密度來找出製備較高品質之薄膜的條件。所用的脈衝雷射為倍頻之 Nd:YAG 雷射及本 實驗室自製之氙離子雷射。我們對雷射能量，基板溫度，氧氣壓力等參數對薄膜品質 的影響皆做了詳細的討論。另外，我們採用光學蝕刻法將鍍得之薄膜製成10um寬，12 5um 長的超導橋，並觀察其臨界電流密度(JC)隨著不同之溫度，及外加磁場之變化情 形。