4.4微米多層膜光學帶通濾光器的研製

Abstract

本文以Ge和SiO□ 為光學材料對，矽晶片當基板，設計一4.1微米截通4.6微米截止 峰值在4.4 微米的帶通濾光片，蒸鍍機是單電子鎗蒸鍍機。實驗結果和模擬結果很 吻合，對於在短波長的波段出現了模擬時沒有的突起，我們也提出了改善的方法。