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dc.contributor.author羅正銘en_US
dc.contributor.authorLUO, ZHENG-MINGen_US
dc.contributor.author羅正忠en_US
dc.contributor.authorLUO, ZHENG-ZHONGen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:09:29Z-
dc.date.available2014-12-12T02:09:29Z-
dc.date.issued1991en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT802430054en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/56088-
dc.description.abstract由於電子可抹除,非改變記憶體非常複雜,所以在完成此記憶體之前,模擬記憶體 功能及製程參數就顯得相當重要。 為了發展模擬模型,我們運用非常通俗的運算表軟體建立模擬模型去預測記憶晶體 臨界電壓對程式脈衝電壓及時間的關係。 我們利用2.0 微米元件製造不同藕合值,記憶體晶胞去測量實際晶胞臨界電壓之變 化,發現實驗結果與模型模擬值非常接近,由此可證明此模擬模型的準確度。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject電子可抹除zh_TW
dc.subject記憶體zh_TW
dc.subject模擬模型zh_TW
dc.title電子可抹除記憶體模擬模型zh_TW
dc.titleEeprom of flotox simulate modelen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department電子研究所zh_TW
顯示於類別:畢業論文