完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 羅正銘 | en_US |
dc.contributor.author | LUO, ZHENG-MING | en_US |
dc.contributor.author | 羅正忠 | en_US |
dc.contributor.author | LUO, ZHENG-ZHONG | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:09:29Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:09:29Z | - |
dc.date.issued | 1991 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT802430054 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/56088 | - |
dc.description.abstract | 由於電子可抹除,非改變記憶體非常複雜,所以在完成此記憶體之前,模擬記憶體 功能及製程參數就顯得相當重要。 為了發展模擬模型,我們運用非常通俗的運算表軟體建立模擬模型去預測記憶晶體 臨界電壓對程式脈衝電壓及時間的關係。 我們利用2.0 微米元件製造不同藕合值,記憶體晶胞去測量實際晶胞臨界電壓之變 化,發現實驗結果與模型模擬值非常接近,由此可證明此模擬模型的準確度。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 電子可抹除 | zh_TW |
dc.subject | 記憶體 | zh_TW |
dc.subject | 模擬模型 | zh_TW |
dc.title | 電子可抹除記憶體模擬模型 | zh_TW |
dc.title | Eeprom of flotox simulate model | en_US |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |