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dc.contributor.author馮元掄en_US
dc.contributor.authorPing, Yuan-Lunen_US
dc.contributor.author謝太炯en_US
dc.contributor.authorXie, Tai-Jiongen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:10:02Z-
dc.date.available2014-12-12T02:10:02Z-
dc.date.issued1991en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT804429007en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/56451-
dc.description.abstract利用射頻激勵二氧化碳雷射為一近年來雷射加工機的新發展趨勢,而射頻放電現象與 傳統直流放電的物理特性不同。本論文探討射頻激勵雷射的基礎性問題。理論上,我 們討論了觸發放電之崩潰電場與氣體參數的關係,並且建立射頻放電區的等效電路。 而射頻電路方面,藉由SPICE 和LIBRA 軟體的分析,得知阻抗匹配所具備最大功率傳 輸和電壓增益的特性,以及模擬計算放電管阻抗值。實驗上,從建立的快速軸流放電 系統,實際操作匹配電路,量測放電崩潰電壓與氣壓的關係,其結果與理論預測相符 。從40cm的放電長度上,可以獲得超過120 瓦的雷射功率輸出,轉換效率亦達14% 以 上。另外,我們也討論雷射功率與氣體參數的關係,並就射頻技術與其他的雷射激勵 技術作一比較。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject雷射zh_TW
dc.subject射頻技術zh_TW
dc.subject等效電路zh_TW
dc.subject電子物理zh_TW
dc.subject電子工程zh_TW
dc.subjectELECTROPHYSICSen_US
dc.subjectELECTRONIC-ENGINEERINGen_US
dc.titleStudy of a radio frequency excited CO□laseren_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department電子物理系所zh_TW
顯示於類別:畢業論文