Title: 石英蝕刻調細式相移光罩之模擬與研製
Simulation and Fabrication of a Quartz-Etch Attenuated Phase Shift Mask
Authors: 林雍秩
Lin Yung-chih
龍文安
Dr.Loong Wen-an
應用化學系碩博士班
Keywords: 相移光罩,調細式相移光罩,石英蝕刻;Phase Shift Mask, Attenuated Phase Shift Mask, Quartz-Etch
Issue Date: 1993
Abstract:   相移光罩能在不改變原有製程與曝光機設備下,達到改進解像度與聚
焦深度的目的。但由於光罩缺陷的控制及修補不易,阻礙了相移光罩應用
於實際製程。調細式相移光罩具有製造較易、適合任何圖案設計、耐用性
高等優點。近年來,單層調細式相移光罩的發展,使得製造方法之簡便性
接近傳統光罩,改善了相移光罩製造困難,缺陷控制及修補不易的缺點。
本論文以最新版之模擬軟體,針對0.35微米製程,整合性的探討傳統
光罩與調細式相移光罩之製程寬容度。本論文首創以頂部臨界尺寸之曝
光 - 離焦樹狀圖分析模擬結果,尋找對調細式相移光罩合適的步進機光
學參數值。本論文亦探討鉻膜透光度與圖案正負偏差對調細式相移光罩製
程寬容度的影響。 文獻已報導,以調細式相移光罩,改善製程寬容度
原本甚差之密集線 / 隙甚難。本論文模擬發現,如使用數值光圈為0.5,
相干度為0.6之曝光步進機可對密集線/ 隙之製程寬容度有相當的改善。
經由實作光罩,阻劑成像,証明模擬結果與實驗相當符合。具有前述光學
參數之曝光步進機仍為國內微電子工業界所廣泛使用。因此,本論文具有
高度實際應用價值。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT820500009
http://hdl.handle.net/11536/58392
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