1. 目前位置：

標題: 電漿輔助化學沈積法的氮化矽膜之表面型態對陽極氧化鋁/氮化矽雙層介電層非晶矽薄膜電晶體電性之影響
Effects of SiNx morphology on the electrical properties of a-Si:H TFT with Al2O3/XiNx double layered gate insulators
作者: 李秋德
Li, Qiu De
馮明憲
Feng, Ming Xian
材料科學與工程學系
公開日期: 1994
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT832159013
http://hdl.handle.net/11536/59677
顯示於類別：畢業論文


相關內容
Loading...