標題: | 自由基NH2與臭氧之反應動力學研究 Kinetics of the Reaction of NH2 with O3 |
作者: | 林國偉 Lin, Guo-Wei 王念夏 Wang, Nian-Xia 應用化學系碩博士班 |
關鍵字: | 應用化學;化學;雷射光解;雷射誘發螢光法;雷射光解氨;APPLIED-CHEMISTRY;CHEMISTRY |
公開日期: | 1995 |
摘要: | 本研究是利用雷射光解–雷射誘發螢光法(Laser Photolysis/Laser-induce Fluorescence) 測量在大氣化學中相當重要的NH2 自由基與臭氧(O3)之反應速率常數 。先以波長193nm 的雷射光解氨(Ammonia) 使其產生NH2 自由基,在反應進行的時間 內在以另一雷射光激發NH2 自由基使其放出螢光。再以螢光強決定NH2 濃度變化。 NH2+O3→Product(1) 實驗溫度範圍從223K到423K,室溫下k1=(3.98±0.34)×10-13cm-3molecule-1s-1 , 其反應速率常數沒有明顯之壓力效應,並且隨溫度上升反應速率有增加的趨勢。k1在 223K到423K之阿瑞尼士表示為: k1=(5.3±0.4)×10-12exp((-760±20)/T)cm-3molecule-1s-1 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT844500006 http://hdl.handle.net/11536/61301 |
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