標題: | 電子迴旋共振電漿氧化成長閘極氧化層之應用及二氧化矽層的特性探討 The Study of Gate Oxides Grown by Electron Cyclotron Resonance Plasma Oxidation and the Characteristics of Silicon Dioxide Films |
作者: | 李啟弘 Li, Chii-Horng 張國明 Kow-Ming Chang 電子研究所 |
關鍵字: | 電漿氧化;電漿預處理;舒緩現像;有紋路表面;穿隧氧化層;plasma oxidation;plasma pretreatment;relaxation phenomena;textured surface;tunnel oxide |
公開日期: | 1996 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT850428042 http://hdl.handle.net/11536/61909 |
顯示於類別: | 畢業論文 |