非晶態氧化銦透明薄膜電晶體技術之研究

标题:	非晶态氧化铟透明薄膜电晶体技术之研究 Study on Transparent Amorphous Indium Oxide Thin Film Transistors Technology
作者:	赖郁嘉 Lai, Yu-Chia 刘柏村徐嘉鸿 Liu, Po-Tsun Hsu, Chia-Hung 光电工程研究所
关键字:	氧化铟;电晶体;indium oxide;thin film transistor
公开日期:	2014
URI:	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT070150525 http://hdl.handle.net/11536/76218
显示于类别：	Thesis

APA	赖., Lai, Y., 刘., 徐., Liu, P., & Hsu, C. (2014). 非晶态氧化铟透明薄膜电晶体技术之研究. http://hdl.handle.net/11536/76218.
Bibtex	@article{赖郁嘉 and Lai2014, title={非晶态氧化铟透明薄膜电晶体技术之研究}, author={赖郁嘉 and Lai, Yu-Chia and 刘柏村 and 徐嘉鸿 and Liu, Po-Tsun and Hsu, Chia-Hung}, journal={http://hdl.handle.net/11536/76218}, year={2014}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/76218?locale=zh_CN&mode=simplelocale%3Denlocale%3Dzh_CNlocale%3Den}, }