使用ㄧ次曝光和二元光罩來產生擁有良好聚焦 深度的細線之模擬與研究

Abstract

我們發現當一條暗線獨自被曝光時會有較差的結果，可是當這條暗線是被兩條細的亮線所包圍時，經由適當的曝光條件，我們能夠得到一條極佳的暗線，而這條暗線的寬度能小於100nm，此外，藉由這個曝光方式，我們只需要使用二元光罩即可得到擁有如此良好寬度的暗線。 不過使用上述的方式所得到的暗線，在相鄰的兩條細暗線間，會得到一條不想得到的粗暗線，因此，我們必須另外增加一道曝光過程將此不希望出現的粗暗線給清除掉，所以總共需要兩次曝光，而爲了能夠減少曝光的次數，我們將原本會產生粗暗線的部份改成部分透光但像位不變的光罩，而藉由這樣的改變我們能提升此處的光強，所以使得原本不曝光的部分變成曝光，因此只需ㄧ次曝光即可得到想要的細線。 最後，我們使用ㄧ群適當週期排列的細線，此細線的寬度小於曝光的極限因而不會被顯現出來，接著再適度調整週期，藉由暗線和亮線所佔面積的不同來得到想要的穿透量，再將這群週期排列的暗線取代先前所提不曝光的區域，藉此得到只需使用ㄧ次曝光和二元光罩即可得到良好細線的方法。