标题: | 应用化学滤网去除某晶圆厂黄光区洁净室之氨气 Application of chemical filters to remove ammonia in the clean room air of the photolithographic area of a wafer fab |
作者: | 刘兴学 蔡春进 工学院产业安全与防灾学程 |
关键字: | 气态分子污染物;化学滤网;洁净室;离子电泳分析仪;AMCs, Airborne Molecular Contaminations;Chemical Filter;Clean Room;IMS, Ion Mobility Spectrometry |
公开日期: | 2007 |
摘要: | 随着半导体元件之线宽微影技术的进展由10年前的0.5~0.35μm缩小至3年前的0.25~0.1μm,而现在又由于浸润式微影制程的发明,又将线宽缩小至32nm,使得制程环境污染的防治重点已由微粒转移至气态分子污染物上。业界目前解决气态分子污染物之主要方法为加装化学滤网,将所要去除之特定气态分子污染物利用包覆改质活性碳之化学滤网加以吸附,达到降低生产机台环境污染物浓度的目的。 本研究于竹科某晶圆制造厂黄光区风扇过滤单元(FFU, Fan Filter Unit)上方加装化学滤网,并长期以离子电泳分析仪(IMS, Ion Mobility Spectrometry)监测该厂黄光区氨气浓度之变化,观察一年以来,证实该化学滤网于原来安装前FFU吸入端,由平均5.5ppb降至1~3ppb,黄光区环境即FFU出气端,则由平均5.5ppb降至1ppb以下,于低浓度下依然能有效降低氨气浓度,平均去除效率可达80~90%。也由于氨气浓度降低得以让晶片减少缺陷、步进机上的镜片雾化情形降低、193nm光罩曝光能量时间研长,大大降低晶圆制造厂之维护成本,提高晶片良率。 本研究另外针对市售化学滤网之形式、实厂安装位置做一比较分析,另提供业界化学滤网选购、安装注意事项及验收标准之参考,并改变以往只由厂商提供自家实验室测试之性能曲线数据,缺乏第三公正单位之验证,避免发生球员兼裁判之情形发生,建立一套更公正客观之化学滤网采购流程。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009466515 http://hdl.handle.net/11536/82449 |
显示于类别: | Thesis |
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