氣化氫氟酸在奈米金氧半電晶體之應用及其設備之開發(II)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	趙天生	en_US
dc.contributor.author	CHAO TIEN-SHENG	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:29:52Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:29:52Z	-
dc.date.issued	2006	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC95-2221-E009-272	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/89739	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1309496&docId=241986	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	氣化氫氟酸在奈米金氧半電晶體之應用及其設備之開發(II)	zh_TW
dc.title	Processes and System Development of HF-Vapor for Nano Mosfets' Application(II)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學電子物理系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫