前瞻新結構電阻式記憶體元件之製作(2/2)

標題:	前瞻新結構電阻式記憶體元件之製作(2/2) Fabrication Technology of Novel Structure in Resistive-RAM (RRAM) Devices (II)
作者:	施敏 SZE SIMON MIN 國立交通大學電子工程學系及電子研究所
公開日期:	2013
官方說明文件#:	NSC102-2221-E009-007
URI:	http://hdl.handle.net/11536/90070 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=3163748&docId=426152
顯示於類別：	研究計畫